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Plessey分享Micro LED 技术如何加速AR与其他智能穿戴装置发展

排行榜 收藏 打印 发给朋友 举报 来源: LED世界资讯网  
共0条评论】【我要评论 时间:2019年7月31日

o a`,e/`0G4l/M]0英国半导体技术厂 Plessey 已成功研发单晶硅基氮化镓 (GaN-on-Si) Micro LED 技术。该公司指出,这类创新研发将会支援各种次世代应用,如 AR 头戴式装置、抬头式显示器 (HUD) 等进入大众市场的其他智能穿戴装置。

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Micro LED具备高对比、高速、广视角、高亮度、高效率与作业时间长等特性,相当适合应用在智能手表、抬头式显示器与 AR 头戴式装置等穿戴式产品上的显示器应用。

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4l/VL2GA(M OY0然而, Micro LED因体积微小,制作过程艰难,若使用常见的取放技术,将 Micro LED 一个个以小于 50 微米的间距摆放,是相当困难的挑战。该制程的设备价格不斐且在产量上仍充满疑虑,随着像素密度逐日攀升,取放技术恐无用武之地。LED世界资讯网J)fDOPH5u

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1hX t _k:]*VS0图片来源:PlesseyLED世界资讯网 a` h _ [-S

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因此,Plessey 持续开发硅基氮化镓的技术,该技术将氮化镓LED放置在硅基板而非传统的蓝宝石基板上。使用硅基氮化镓技术,便能够制造单晶 Micro LED,在单一芯片上装载多个放射器。这种方法的优势在于能将像素间距缩小至8微米、且能放大LED放射体积,以及硅基氮化镓表面的放射属性所带来的较高对比等。该技术适用的晶圆大小,已经可轻松拉至 200nm以上,改善成本与良率。

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此技术能够剔除传统取放式生产的弊病,又赋予Micro LED 满足新兴 AR 与显示器应用之苛刻要求的潜力。再者,采单晶设计让Micro LED能直接放在CMOS硅背板上,轻松将 CMOS 电路导入高科技应用。

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!f5S5^-IjYB_0Plessey具有目前唯一的单晶Micro LED方案,并陆续对外授权该技术,供合作伙伴生产客制化显示器与光源使用,满足各式各样的消费者电子应用。LED世界资讯网 ~+oU'XiM

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